2．对工作效率的影响

　　这主要看三方面的反应水平，这三个方面是：集中精神，动作准确性，工作速度；

　　3．对综合通讯的干扰

　　这主要分为：清楚或满意，稍困难，困难，不可能

　　对以上三方面指标都用A声级来评价。在50年代曾提出用一条频谱曲线作为评价标准即各频带中心频率的声压级不得超过该曲线。后来了解到刷A等级来计量噪声与噪声的语音干扰和烦恼程度更为台适，可以代替倍频带声压级作为评价标准的指标。

　　向有很高的要求。这里有必要先说明一下无窗洁净室的照明方式：

　　(1)一般照明

　　它指不考虑特殊的局部需要，为照亮整个被照面积而设置的照明。

　　(2)局部照明

　　这是指为增加某一指定地点（如工作点）的照度而设置的照明。但在室内照明由一般不单独使用局部照明。

　　(3)混合照明

　　这是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《洁净厂房设计规范》应占总照度的10%—15%，但不低干150LX。单位被照面积上接受的光通量即是照明单位勒克斯(LX)。

　　国外洁净室的强度要求极高，例如美国关于洁净室的几个标准的要求是．

　　人工光300lx有较好的效果，当工件精细程度更高时，500x也是允许的。对于要红灯照明的地方，如电子行业的光刻车间，其照度一般为(25—501x)，

　　用天然光时可允许更高的照度，因而对工作是有利的，所以今后洁净室的照明既采用人工光也采用天然光可能是有前途的，这也是为了节能而出现的一种动向。

　　光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给于特别设计之密闭空间。

　　光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于领先地位。

　　光学微电子净化工程一般包括：

　　1、洁净生产区

　　2、洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）

　　3、管理区（包括办公、值班、管理和休息）

　　4、设备区（包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房）

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